Beschaffung eines Multi-Ionenstrahl-Mikroskops der nächsten Generation / Next Generation Multi-Ion-Beam Microscope. Zur Umsetzung des geförderten Projekts MYRIAD wird ein Multi-Ionenstrahl-Mikroskop beschafft. MYRIAD integriert völlig neuartige Strukturierungsmöglichkeiten, verschiedene bildgebende Elektronen- und Ionenstrahl-Mikroskopie-Methoden, sowie eine breite Palette von Analyseverfahren. Im Mittelpunkt steht eine einzigartige Technologie, die den flexiblen Einsatz verschiedener Ionenstrahlen (Xe, Ar, N, O) ermöglicht.
Der Beschaffungsvorgang unterliegt grundsätzlich nicht dem Anwendungsbereich der Beschaffungsrichtlinien oder dem BVergG 2018. Der Verein zur Förderung der Elektronenmikroskopie und Feinstrukturforschung gibt den beabsichtigten Vertragsabschluss aufgrund der anzuwendenden Fördervorgaben bekannt, um größtmögliche Transparenz sicherzustellen. Der Auftrag kann nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden, da aus technischen Gründen kein Wettbewerb vorhanden ist. Die technische Ausschließlichkeit ergibt sich aus der technischen Besonderheit der nachgefragten Leistung und den bewilligten Inhalten des Förderprojekts, die sich aus den nachstehenden speziellen Mindestanforderungen zusammensetzen. Im Ergebnis kann lediglich ein Unternehmen am Markt, die für die Leistungserbringung technischen (zwingend erforderlichen) Anforderungen erfüllen: Erfordernis eines robusten, erprobten und hochpräzisen Systems: Given the complexity in applications and the demanded precision, a robust, field-tested solution that combines stability, dependability, and seamless integration for continuous high-performance research applications is mandatory. System Overview: Erfordernis der Gesamtheit der genannten Ionen-Arten: The SEM-FIB system must excel in both, imaging and FIB capabilities, enabling high-resolution materials characterization and advanced nanofabrication. A robust Plasma-Focused Ion Beam (pFIB) system supporting multiple ion species - specifically Xe, Ar, O, and N - is key and mandatory, further complemented by high-resolution electron optics suitable for diverse imaging applications. Erfordernis von Hochvakuum-Systemen: The system chamber should operate under high-vacuum conditions to accommodate various stage add-ons for customized solutions, which excludes ultra-high-vacuum configurations.